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정해도 (부산대학교)

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공동저술논문수 : 1

조한철 (H. C. Cho) 논문수 · 이용수 1,798

소속기관: 한국생산기술연구원

소속부서: Precision Mechanical Process and Control R&D Group

주요 연구분야: 공학 > 기계공학 > 기계공학 일반 공학 > 전기전자공학 > 제어계측공학 공학 > 전기전자공학 > 전자공학

연구경력: -

저자정보 . 논문
공저자 . 저널

저자의 연구 키워드

저자의 연구 키워드: #abrasive wear(연삭 마모); #Air-gap layer (공기층); #buffing(버프 가공); #Chemical Mechanical Cleaning(화학 기계적 세정); #Chemical mechanical planarization; #chemical mechanical planarization(화학 기계적 평탄화); #Chemical Mechanical Polishing; #Chemical Mechanical Polishing(화학기계적 연마); #CMP; #CMP (Chemical mechanical polishing); #colloidal silica abrasive(콜로이달 실리카 연마입자); #Compound semiconductor(화합물반도체); #Conditioning; #Conditioning disk; #Conditioning simulation; #conditioning simulation(컨디셔닝 시뮬레이션); #Contact behavior (접촉 거동); #Convolution neural network; #Deep learning; #Energy harvesting (에너지 하베스팅); #Friction Force; #Gallium ixide; #Gimbals; #Graphene(그래핀); #Groove; #Hydrodynamic perssure; #Ink-jet Printing(잉크젯프린팅); #Internal state recognition; #KCl; #Lapping; #Lithium tantalite(리튬탄탈레이트); #Material removal; #Mechanical resonator (기계진동자); #Micro-dome(마이크로 돔); #MRR; #OLED(유기발광다이오드); #Pad conditioning; #pad conditioning(패드 컨디셔닝); #Pad profile; #pad profile(패드 프로파일); #Pad wear profile; #Patterning(패터닝); #Polymer(폴리머); #Post Cu CMP Cleaning(구리의 화학 기계적 연마 후 세정); #Post-CMP cleaning; #Power amplifier (국문); #Pressure sensor(압력센서); #Removal Rate; #Roughness; #Sapphire wafer; #Soluble(용액형); #Stress distribution; #Substrate(기판); #Surface roughness; #Swing arm; #Triboelectric nanogenerator (마찰대전 발전기); #Waviness; #WIWNU; #Zeta Potential

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