Electrical Characteristics of Titanium Silicided Shallow Junction

박지수 ,  손동균 ,  변정수 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Shallow P n Junction Formation by the Epi-Co Silicide Formed using Co / Ti Bilayer

변성자 ,  김기범 ,  권상직 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Co/Ti 이중막 실리사이드를 이용한 $p^{+}$-n극저접합 다이오드의 제작과 전기적 특성

장지근 ,  엄우용 ,  장호정

한국재료학회지

1998 .01

Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P⁺-N 극저접합 다이오드의 제작과 전기적특성

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .06

역전법을 응용한 실리사이드화된 매우 얇은 접합의 형성 ( Formation of Silicided Ultra-Shallow Junction employing Layer Reversal Method )

김종렬 ,  홍성윤 ,  윤명로 외 2명

전자공학회논문지-A

1996 .08

니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구

김상엽 ,  송오성

한국재료학회지

2007 .01

6H-SiC P^(+)n 접합의 항복 전압을 위한 해석적 모형 ( Analytical Model of Breakdown Voltages for 6H-SiC p^(+)n Junction )

정용성

전자공학회논문지-SD

2001 .06

투과전자현미경을 이용한 $n^+$/p 접합에서 불순물의 이차원적 분포에 관한 연구

Pa ,  k ,  Chel-Jong 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

Ta-Silicides 형성에 관한 연구 - 2 - ( On the Formation of Ta-Silicides - 2 - )

양희준 ,  김동원 ,  최진석 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

Ta-Silicides 형성에 관한 연구 ( 1 ) ( On the formation of Ta-Silicides - 1 - )

양희준 ,  최진석 ,  조현춘 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

On the formation of Ta-silicides -2-

Hee-Jun Yang ,  Dong-Won Kim ,  Jin-Seog Choi 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

Molybdenum and Cobalt Silicide Field Emitter Arrays

Lee ,  Jong-Duk ,  Shim 외 6명

Journal of information display

2000 .01

니켈실리사이드의 색차분석

정영순 ,  송오성 ,  김득중 외 2명

한국표면공학회지

2005 .02

고속열확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리사이드화 된 n+ -P 다이오드 특성분석 ( The formation of the Shallow Junction by Rapid Thermal Diffusion and characteristic Analysis for n+ -p Diode with Ti-silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1993 .11

고속 열 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti - 실리사이드화된 n - p 다이오드 특성 분석 ( The Formation of the Shallow Junction by RTD Characteristic Analysis for n - p Diode with Ti - silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

전자공학회논문지-A

1994 .08

코발트/니켈 적층구조 박막으로부터 형성된 복합실리사이드

송오성 ,  정성희 ,  김득중 외 1명

한국재료학회지

2004 .01

Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P+ -N 극저접합의 형성 ( Formation of P-N Ultra Shallow Junction with The Co / Ti Bilayer Silicide Contact )

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 p+ - n 극저접합의 형성 ( Formation of p+ - n Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )

장지근 ,  엄우용 ,  신철상 외 1명

전자공학회논문지-D

1998 .05

니켈 실리사이드의 열안정성에 대한 실리카 상부막과 코발트 중간막의 영향

한길진 ,  조유정 ,  김영철 외 4명

반도체및디스플레이장비학회지

2005 .01

코발트/니켈 합금박막으로부터 형성된 복합실리사이드

송오성 ,  정성희 ,  김득중

한국재료학회지

2004 .01