Properties of RF plasma treated magnetic tunnel junctions using an anodic oxidation spectroscopy

J. H. Park; K. S. Yoon; J. H. Choi; J. P. Hong; C. O. Kim

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: J. H. Park K. S. Yoon J. H. Choi J. P. Hong C. O. Kim

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제20회 학술발표회초록집

발행연도: 2001.2

수록면: 197 - 197 (1page)

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