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Ultra trace metal impurities of high-purity sulfuric acid for semiconductor process have been determined in the concentration of lower than ppb (ng/g) level using high resolution inductively coupled plasma mass spectrometer (HR-ICP-MS).The acid samples were evaporated and concentrated by the factor of 20. No clement in the acids exceeded 1ppb level and most of the clements were determined below 10ppt (pg/g). Elements without spectral interference in mass spectrum, such as In, V, Mn, etc, were determined in the concentration of below 1ppt level The recoveries in the range of 720% to 127.2% for 0.5ppb spiked sample were obtained.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 토의
감사의 글
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