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논문 기본 정보

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학술저널
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저널정보
한국자기학회 Journal of Magnetics Journal of Magnetics Vol.4 No.3
발행연도
1999.9
수록면
88 - 91 (4page)

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A series of NiO/NiFe bilayer films are deposited with the variation of Ar sputtering pressure for the NiO layers only. As the pressure for the NiO layers increases, the exchange anisotropy field (H_(EX)) decreases gradually and becomes extinct at 2.5 mTorr, at which the maximum coercive force (Hc) in the NiO/NiFe films is obtained. Randomly oriented columnar structures with H_(EX) a few tens of Oe and oriented columnar structures with zero H_(EX) are observed in the NiO layers by high-voltage high-resolution transmission electron microscopy. The vanishing of the H_(EX) in the oriented structures is attributed to the lack of exchange anisotropy energy (E_(EX)) between NiO and NiFe layers, which results in little contribution of interfacial unidirectional pinning anisotropy to the interface of NiO/NiFe bilayer.

목차

Abstract

1. Introduction

2. Experimental Procedures

3. Results and Discussion

4. Conclusions

References

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-428-015128035