이온식각공정의 재증착 현상을 이용한 니켈 마이크로 나노 구조물 제작

정필구; 황성진; 이상민; 고종수

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자료유형: 학술저널

저자정보: 정필구 황성진 이상민 고종수

저널정보: 대한기계학회 대한기계학회 논문집 A권 대한기계학회논문집 A권 제31권 제1호

발행연도: 2007.1

수록면: 50 - 54 (5page)

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Nickel nano and microstructures are fabricated with simple process. The fabrication process consists of nickel deposition, lithography, nickel ion etching and plasma ashing. Well-aligned nickel nanowalls and nickel self-encapsulated microchannels were fabricated. We found that the ion etching condition as a key fabrication process of nickel nanowalls and self-encapsulated microchannels, i.e., 40 sccm Ar flow, 550 W RF power, 15 mTorr working pressure, and 20℃ water cooled platen without using He backside cooling unit and with using it, respectively. We present the experimental results and discuss the formational conditions and the effect of nickel redeposition on the fabrication of nickel nano and microstructures.

#Nickel(니켈) #Nanowall(나노벽) #Microchannel(마이크로채널) #Ion Etching(이온 식각) #Redeposition(재증착)

참고문헌 (10)

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Quake, Stephen R. and Scherer, Axel, 2000, “From Micro to Nanofabrication with Soft Materials,” Science, Vol. 290, pp. 1536~1540.

Ko Jong Soo, Yoon Hyun C., Yang Haesik, Pyo Hyeon-Bong, Chung Kwang Hyo and Kim Youn Tae, 2003, “A Polymer-Based Microfluidc Device for Immunosensing Biochips,” Lab Chip., Vol. 3, pp. 106~113.

Routkevitch Dmitri, Tager, A. A., Haruyama Junji, Almawlawi Diyaa, Moskovits Martin and Xu Jimmy M., 1996, “Nonlithographic Nano-Wire Arrays: Fabrication, Physics, and Device Applications,” IEEE Trans. Electron Devices, Vol. 43, pp. 1646~1658.

Yoo Pil Jin, Suh Kahp Y., Park S. Young and Lee Hong H., 2002, “Physical Self-Assembly of Microstructures by Anisotropic Buckling,” Adv. Mat., Vol. 14, pp. 1383~1387.

Böhm, J., Shubert, A, Otto T. and Burkhardt, T., 2001, “Micro-Metalforming with Silicon Dies,” Microsyst. Technol., Vol. 7, pp. 191~195.

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