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논문 기본 정보

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학술저널
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저널정보
한국자기학회 Journal of Magnetics Journal of Magnetics Vol.12 No.1
발행연도
2007.3
수록면
12 - 16 (5page)

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Magnetic excitation and reversal by a spin polarized current via spin transfer have been a central research topic in spintronics due to its application potential. Special techniques are required to fabricate nano-scale magnetic layers in which the effect can be observed and studied. This work discusses the possibility of using electron- beam resists, the nano-scale patterning media, as ion milling mask in a subtractive fabrication method. The possibility is demonstrated by two resists, one positive tone, the ZEP 520A, and one negative tone, the ma- N2403. The advantage and the key points for success of this process will be also addressed.

목차

1. Introduction
2. Experiment: Fabrication Process
3. Results and Discussion
4. Conclusion
Acknowledgements
References

참고문헌 (1)

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