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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2004년도 추계학술대회 논문요약집
발행연도
2004.10
수록면
65 - 69 (5page)

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On this study, electrochemical polishing is adapted to ultra-fine surface for semiconductor large radius gas-tube. The system which buffing and electrochemical polishing can be performed simultaneously was constructed in connection with developing exclusive system. Based on existing papers and the research of background, electrode gap and electrolyte flow were fixed. Current density and electrochemical precision time were chosen as variables. On this study, it is objected to find optimal precision condition and precision variables on the in-process electrochemical polishing.
#large radius gas-tube for semiconductor(반도체용 대구경관) #in-process electrochemical polishing(복합전해연마) #electrochemical polishing(전해연마) #buffing(버핑) #optimal condition(최적조건)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 기본 이론
3. 실험장치 및 방법
4. 실험결과 및 고찰
5. 결론
후기
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