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논문 기본 정보

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저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제23권 제6호
발행연도
2006.6
수록면
174 - 179 (6page)

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The curing characteristics of a photo curable resin are critical factors that often decide the ultimate resolution and structural sharpness of a final product fabricated by microstereolithography(μ-STL). In this study, we investigated the curing characteristics of the FA1260T photopolymer under a visible laser light of 442㎚ wavelength. Modification of the curing property of the FA1260T is attempted to reduce the cure depth(D<SUB>c</SUB>) by adding a radical quencher to the resin. Also, an organic solvent was used to reduce the resin viscosity for an improvement of the flatness of the liquid surface during layer-by-layer curing. As a result, the minimum D<SUB>c</SUB> has been reduced over a factor of 3 with no abrupt increase. Samples of three dimensional microstructures fabricated using the modified FA1260T are presented.
#Photo curable resin(광경화 수지) #Radical quencher(중합억제제) #Microstereolithography(마이크로광조형) #Microfabrication(미세제조)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 광폴리머의 조성 조절
3. 결과
4. 결론
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