SPL과 소프트 리소그래피를 이용한 나노 구조물 형성 연구

류진화; 정명영; 김창석

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자료유형: 학술저널

저자정보: 류진화 정명영 김창석

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제23권 제7호

발행연도: 2006.7

수록면: 138 - 145 (8page)

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A nanopatterning technique was proposed and demonstrated for low cost and mass productive process using the scanning probe lithography (SPL) and soft lithography. The nanometer scale structure is fabricated by the localized generation of oxide patterning on the H-passivated (100) silicon wafer, and soft lithography was performed to replicate of nanometer scale structures. Both height and width of the silicon oxidation is linear with the applied voltagein SPL, but the growth of width is more sensitive than that of height. The structure below 100 ㎚ was fabricated using HF treatment. To overcome the structure height limitation, aqueous KOH orientation-dependent etching wasperformed on the H-passivated (100) silicon wafer. Soft lithography is also performed for the master replication process. Elastomeric stamp is fabricated by the replica molding technique with ultrasonic vibration. We showed that the elastomeric stamp with the depth of 60 ㎚ and the width of 428 ㎚ was acquired using the original master by SPL process.

#Scanning Probe Lithography(주사 탐침 리소그래피) #Soft Lithography(소프트 리소그래피) #Nanoscale Structure(나노 구조물)

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