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Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.24 No.11
발행연도
2007.11
수록면
108 - 115 (8page)

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We have designed a high transmission C-shaped aperture using finite differential time domain(FDTD) technique. The C-shaped aperture was fabricated in the aluminum thin film on a glass substrate using a focused ion beam(FIB) milling. Nano-size patterning was demonstrated with a vacuum contact device to keep tight contact between the Al mask and the photoresist. Using 405 nm laser, we recorded a 50 nm-size dot pattern on the photoresist with the aperture and analyzed the spot size dependent on the dose illuminated on the aperture.
#Nano-aperture(나노 개구) #FDTD(시간적 유한미분법) #Metal permittivity(금속 유전율) #Nano-lithography(나노 리소그래피) #Nano-pattern(나노 패턴)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 금속 박막에서의 C형 개구 설계
3. 리소그래피 실험 장치 구성
4. 리소그래피 실험과 결과
5. 결론
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