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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제37권 제6호
발행연도
2004.12
수록면
307 - 312 (6page)

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Extensive efforts have been made in an attempt to utilize photocatalytic properties of TiO₂ in visible range. TiO₂ and TiO-N thin films were made by the DC reactive magnetron sputtering method at 300℃. Various gases (Ar, O₂ and N₂) were used and Ti target was impressed by 0.6 ㎸~5.8 ㎸ power range. The hysteresis phenomenon of the TiO₂ thin film as a function of the discharge voltage characteristic was observed to be higher as applied power increases. That of TiO-N thin film was occurred at the 5.8 ㎸ power. The cross section and surface roughness of thin films were observed by FE-SEM and AFM. Average surface roughness of TiO-N thin film was observed as l5.9Å and that of TiO₂ as l3.2Å. The crystal phases of both TiO₂ and TiO-N thin films were found to be anatase structure. The atomic β-N (396 eV peak in N 1s XPS) was shown in the rutile crystal of TiO-N and was considered acting as the origin of wavelength shift to the visible light.
#Photocatalysis(광촉매) #TiO₂(티타늄산화물) #TiO-N(타타늄산화물) #Hysteresis(이력) #Discharge voltage characteristics(방전전압특성) #Optical absorption spectrum(광흡수스펙드럼)

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌

참고문헌 (3)

참고문헌 신청
[학술지(정기간행물)] - S. Takeda / 2001 / Thin Solid Film 392 : 338 ~ google schola [학술지(정기간행물)] - Y. Taga / 2003 / Materials Integration 16 : 34 ~ google schola [학술지(정기간행물)] - J. L. Vossen / 1978 / J. J. Cuomo in Thin Film Process edited by Vossen and Kern : 42 ~ google schola

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