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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌
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Si-SiO₂系의 問題点과 研究動向
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1985 .06
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Capacitance-Voltage Characteristics in the Double Layers of SiO₂/Si₃N₄
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2003 .10
SIMS를 이용한 SiO₂/PSG/SiO₂/Al-1%Si 및 SiO₂/TEOS/SiO₂/Al-1%Si 적층 박막내의 Na 게터링 분석
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2018 .04
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1984 .01
전기로를 이용한 $Si∥SiO_2/Si_3N_4∥Si$기판쌍의 직접접합
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2001 .01
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1997 .07
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대한전자공학회 학술대회
1983 .01
Si-SiO2 계의 N2 Plasma 처리효과에 관한 연구 ( A Study on the Effect of N2 Plasma Treatment on the Si-SiO2 System )
대한전자공학회 학술대회
1988 .01
선형접합기를 이용한 Si∥1.3㎛-SiO₂/1.3㎛-SiO₂∥Si SOI 기판의 직접접합
한국표면공학회지
2001 .02
SiO₂ 콜로이달에 의한 Si₃N₄ 복합 세라믹스의 상온굽힘강도 및 균열치유 현상
대한기계학회 논문집 A권
2009 .07
Si3N4 / SiO2 / Si3N4 다이아프레임을 이용한 광섬유 압력센서 ( Fiber Optic Pressure Sensor Using the Si3N4 / SiO2 / Si3N4 Daiphragm )
한국통신학회 광전자공학 학술회의
1996 .01
Si3N4 / SiO2 / Si3N4 다이아프레임을 이용한 광섬유 압력센서 ( Fiber Optic Pressure Sensor Using the Si3N4 / SiO2 / Si3N4 Daiphragm )
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
〈논문〉SiO₂ 콜로이달 첨가에 의한 Si₃N₄ 복합 세라믹스의 Morphology
대한기계학회 춘추학술대회
2008 .06
Passivations of High-Voltage Planar Devices Using SiO2-Si3N4-SiO2 Film
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
PECVD를 이용한 SiO2 / Si3N4 박막의 특성 고찰 ( Characteristics of SiO2 / Si3N4 Films Using the PECVD Method Under Various Conditions )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
이온주입시킨 Si-SiO2 계면에서의 전자상태 계산 ( Self-consistent Calculation of Electronic States at ion-implanted Si-SiO2 interface )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
$ZnO/SiO_2/Si$ 구조의 결정 배향성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
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