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저자정보
신홍규 (강원대학교) 권종태 (강원대학교) 서영호 (강원대학교) 김병희 (강원대학교) 박창민 ((주)제이엠아이) 이재숙 ((주)제이엠아이)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2008년도 추계학술대회
발행연도
2008.11
수록면
1,825 - 1,828 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2009

양극산화공정을 이용한 반사방지 성형용 나노 마스터 개발
신홍규 ,  박용민 ,  서영호 외 1명 한국생산제조학회지 2009.12 학술저널

2008

저온 양극산화공정을 이용한 반사 방지용 폴리머 마스터 제작
신홍규 ,  권종태 ,  서영호 외 3명 대한기계학회 춘추학술대회 2008.11 학술대회자료

초록· 키워드

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A simple method for the fabrication of porous nano-master for antireflective surface is presented. In conventional fabrication methods for antireflective surface, coating method with low refractive index has usually been used. However, it is required to have high cost and long times for mass production. In this paper, we suggested the fabrication method of antireflective surface by the hot embossing process using the porous nano patterned master on silicon wafer fabricated by low-temperature anodic aluminum oxidation. Through multi-AAO and etching processes, nano patterned master with high aspect ratio was fabricated at the large area. Pore diameter and inter-pore distance are about 150㎚ and from 150 to 200㎚. In order to replicate anti-reflective structure, hot embossing process was performed by varying the processing parameters such as temperature, pressure and embossing time etc. Finally, antireflective surface can be successfully obtained after etching process to remove selectively silicon layer of AAO master.
#Low-temperature AAO(저온양극산화) #Porous master(다공성마스터) #Antireflection(AR)

목차

Abstract
1. 서론
2. 양극산화공정
3. 핫 엠보싱 공정을 이용한 폴리머 마스터 복제
4. 결론
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