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저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2008년도 추계학술대회
발행연도
2008.11
수록면
1,869 - 1,873 (5page)

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In this work, to make it possible to generate glow discharge in atmospheric pressure condition with relatively high and wide electric field, micro channel reactor is proposed. Si DRIE and Cr deposition by Ebeam evaporation is used to make channel and bottom electrode layer. Upper electrode is made from ITO glass to visualize discharge within micro channel. Fabricated reactor is verified by generating uniform glow plasma with N2 / He gases each as working fluid. The range of gas electric field to generate glow plasma is from about 200 V/㎝ and upper limit is not observed in tested condition of up to 150 ㎸/㎝. This data shows that micro channel plasma reactor is more versatile. Indirect estimation of electron temperature in this reactor can be inferred that the electron temperature within glow discharge in micro reactor lies 0~2eV. This research demonstrates that the reactor is appropriate in application that needs to maintain low temperature condition during chemical process.
#Glow plasma(글로우 플라즈마) #Micro channel(마이크로 채널) #Atmospheric pressure plasma(상압 플라즈마)

목차

Abstract
1. 서론
2. 플라즈마 반응기 실험
3. 플라즈마 특성 평가
4. 결론
참고문헌

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