선대 평판형 플라즈마장치의 코로나 방전 및 오존발생 특성에 미치는 바이어스된 3전극의 영향

鄭在勝; 文在德

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자료유형: 학술저널

저자정보: 鄭在勝 (경북대학교) 文在德 (경북대학교)

저널정보: 대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제57권 제4호

발행연도: 2008.4

수록면: 648 - 652 (5page)

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Corona discharge and ozone generation characteristics of a wire-plate plasma reactor, with a biased third electrode, have been investigated with an emphasis on the role of the bias voltage and frequency applied on the third electrode. It was found that the wire-plate plasma reactor, with the biased third electrode, had a switching characteristic on its I-V characteristics for negative and positive discharges, which is very different from that of a conventional wire-plate plasma reactor without the third electrode. As a result, the corona discharge and ozone generation characteristics of the proposed plasma reactor could be controlled by adjusting the bias voltage and frequency of the third electrode. The corona onset and breakdown voltages, and ozone generation and yield, were increased compared with those of without the third electrode. These, however, reveal the effectiveness of the biased third electrode.

#Wire-plate type plasma reactor #Third electrode #Bias voltage and frequency #Corona discharge and ozone generation control #Ozone yield

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1. [학술지(정기간행물)] - J. Chang / 2001 / Recent development of plasma pollution control technology: a critical review / Sci and Tech of Advanced Materials 2 : 571 ~ 576

2. [기타자료] - / 1992 / NATO Advanced Research Workshop on Non- thermal Plasma Techniques for Pollution Control, Cambridge Univ, England U.K. (Sept, 1992) pp. 1-8

3. [학술지(정기간행물)] - G. Sathiamoorthy / 1999 / Chemical reaction kinetics and reactor modeling of NOx removal in a pulsed streamer corona discharge reactor / Ind. Eng. Chem. Res 38 (5) : 1855 ~ 1944

4. [학술지(정기간행물)] - S. Park / 2006 / Effective ozone generation utilizing a meshed-plate electrode in a dielectric-barrier discharge type ozone generator / Journal of Electrostatics 64 (5) : 255 ~ 262

5. [학술지(정기간행물)] - T. Oda / 1996 / Decomposition of gaseous organic contaminants by surface discharge induced plasma chemical processing-SPCP / IEEE Trans on IA 32 (1) : 118 ~ 123

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