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The passivation films with epoxy layer on LiF, SiN<SUB>x</SUB> and LiF/SiN<SUB>x</SUB> inorganic layer were fabricated on OLED to protect device from the direct damage of O₂ and H₂O and to apply for a buffer layer between OLED device and passivation multi-layer with organic/inorganic hybrid structure as to diminish the thermal stress and expansion. Red OLED doped with 1 vol.% Rubrene in Alq₃ was used as a basic device. The device structure was multi-layer of ITO(150 ㎚) / ELM200_HIL(50 ㎚) / ELM002_HTL(30 ㎚) / Alq₃: 1 vol.% Rubrene(30 ㎚) / Alq₃(30 ㎚) / LiF(0.7 ㎚) / Al(100 ㎚). LiF/epoxy applied as a protective layer didn't contribute to the improvement of life time. While in case of SiN<SUB>x</SUB>/epoxy, damage was done in the passivation process because of difference in heat expansion between films which could occur during the formation of epoxy film. Using LiF/SiN<SUB>x</SUB>/epoxy improved lifetime significantly without suffering damage in the process of forming films, therefore, the best structure of passivation film with inorganic/epoxy layers was LiF/SiN<SUB>x</SUB>/E1.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과
4. 결론
후기
참고문헌
참고문헌 (12)
참고문헌 신청
1. [단행본] - Shizuo Tokito / 2006 / 유기EL 디스플레이 기초와 응용 / 성안당 : 192 ~
2. [학술지(정기간행물)] - 김종환 / 2006 / 고분자 기판위에 다층 구조의 박막형 보호층을 적용한 투습률 향상 / 전기전자재료학회논문지 19 (3) : 255 ~ 259
3. [학술지(정기간행물)] - 주성후 / 2006 / SiNx 박막에 의한 OLED 소자의 보호막 특성 / 전기전자재료학회논문지 19 (8) : 758 ~ 763
4. [학술지(정기간행물)] - Z. Y. Xie / 2004 / / Appl. Phys. Lett. 84 (7) : 1207 ~
5. [학술지(정기간행물)] - C. N. Li / 2005 / / Appl. Phys. A. 80 : 301 ~
2. [학술지(정기간행물)] - 김종환 / 2006 / 고분자 기판위에 다층 구조의 박막형 보호층을 적용한 투습률 향상 / 전기전자재료학회논문지 19 (3) : 255 ~ 259
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