Determination of End Point for Direct Chemical Mechanical Polishing of Shallow Trench Isolation Structure

Yong-Jin Seo ,  Kyoung-Jin Lee ,  Sang-Yong Kim 외 1명

KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications

2003 .02

Shallow Trench Isolation for 0.15mm Device

Jung H. Lee ,  Se J. Rhee ,  Jun G. Choi 외 4명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

TRENCH ETCHING FOR SHALLOW TRENCH ISOLATION USING $Cl_2/Ar$ PLASMA

Kim ,  C.B. ,  Jun 외 7명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

기계화학적 연마를 이용한 트렌치 구조의 산화막 평탄화

김상용 ,  서용진 ,  김철복

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Reduction of Large Particles and Light Point Defects (LPD) by Aging and Selective Sedimentation Process in Ceria Slurry for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing

Lee ,  Byong-Seog ,  Kang 외 9명

한국재료학회 학술발표대회

2006 .01

Simulations of Stress and Narrow Width Effects in Shallow Trench Isolation and Its Applications

Yong-Jae Lee ,  Jong-Hyung Lee

INTERNATIONAL CONFERENCE ON FUTURE INFORMATION & COMMUNICATION ENGINEERING

2011 .06

패턴 밀도를 고려한 Chemical Mechanical Polishing에 관한 연구

이재경 ,  문원하 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

Effects of Non-Prestonian Behavior of Ceria Slurry with Anionic Surfactant on Abrasive Concentration and Size in Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing

Choi ,  Hyuk-Yul ,  Kang 외 8명

한국재료학회 학술발표대회

2006 .01

65 ㎚이하 shallow trench isolation (STI) gap fill 특성향상을 위한 profile 개선 연구

김희대 ,  박창기 ,  이내응

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

Trench isolation을 사용한 다이오드의 전기적 특성 ( The Electrical Characteristics of diode using trench isolation )

편광의 ,  양전욱 ,  조경익 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

Trench isolation을 사용한 다이오드의 전기적 특성

편광의 ,  양전욱 ,  조경익 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1986 .06

THE CHARACTERIZATION OF SHALLOW TRENCH ISOLATION CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION(STI CMP) THROUGH THE ANALYSIS FOR RELATIONSHIP OF BETWEEN PATTERN AND NON-PATTERN WAFER

Kim ,  Yong-Sik ,  Lee 외 7명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Chemical Mechanical Polishing 공정기술 및 장비동향

성홍석

전자공학회지

2013 .12

제안된 얕은 트랜치 격리에서 구조형태에 따른 제작 및 특성의 시뮬레이션

이용재

한국정보통신학회논문지

2012 .01

STI(Shallow Trench Isolation) 공정에서 Torn Oxide Defect 해결에 관한 연구

김상용 ,  서용진 ,  김태형 외 4명

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .11

Effects of molecular weight of surfactant in Nano Ceria Slurry on Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing

이명윤 ,  강현구 ,  박형순 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2004 .01

Tribology In Chemical Mechanical Polishing

Hong Jin Kim

한국트라이볼로지학회 학술대회

2016 .04

초고집적용 새로운 회자 구조의 얕은 트랜치 격리의 특성 분석

이용재

한국정보통신학회논문지

2014 .10

집중변수방법을 이용한 화학-기계적 연마공정의 TCM 연성모델

오승희 ,  석종원

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2007 .06

Flowable oxide CVD Process for Shallow Trench Isolation in Silicon Semiconductor

Sung-Woong Chung ,  Sang-Tae Ahn ,  Hyun-Chul Sohn 외 1명

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2004 .03