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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2009.4
- 수록면
- 259 - 262 (4page)
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Several universities in Korea are beginning studies related to soft stamping processes but since the studies are done with manual works thus systematic tests can't be performed due to difficulties in producing reproducible and repeatable fine patterns. Therefore, the phenomenon of destruction of the pattern forms of elastic polymers occurred during working because of inconsistent printing pressures and printing time and there have been difficulties in maintaining flatness or producing uniform and fault-free fine structures in printing large areas and also, there have been difficulties in multi-layered processes as patterns were changed by contacts in registering and errors in alignments.
The purpose of development of this technology is to improve the process of soft lithography so that contacts between PDMS stamps and metal coated substrates in order to develop a stamp printing device that can n at only shorten but also optimize processes, secure re producibility and repeatability and is advantageous in printing large areas. Also, using this technology, this author is to develop equipment technologies and applie d technologies for nano grade pattern printing processes with new concepts based on fine contact printing processes in order to apply them to diverse nano patterning processes.
The purpose of development of this technology is to improve the process of soft lithography so that contacts between PDMS stamps and metal coated substrates in order to develop a stamp printing device that can n at only shorten but also optimize processes, secure re producibility and repeatability and is advantageous in printing large areas. Also, using this technology, this author is to develop equipment technologies and applie d technologies for nano grade pattern printing processes with new concepts based on fine contact printing processes in order to apply them to diverse nano patterning processes.
목차
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
[참고문헌]
참고문헌 (0)
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