Effect of N2/Ar flow rates on Si wafer surface roughness during high speed chemical dry thinning

W. Heo; N.-E. Lee

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: W. Heo (성균관대학교) N.-E. Lee (성균관대학교)

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제39회 하계정기학술대회 프로그램집

발행연도: 2010.8

수록면: 128 - 128 (1page)

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2010

Effect of N2/Ar flow rates on Si wafer surface roughness during high speed chemical dry thinning

W. Heo , N.-E. Lee 한국진공학회 학술발표회초록집 2010.08 학술대회자료

Reduction of surface roughness during high speed thinning of silicon wafer

W. Heo , J. H. Ahn , N.-E. Lee 한국진공학회 학술발표회초록집 2010.02 학술대회자료

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이 논문의 저자 정보

W. heo

소속기관 성균관대학교

주요연구분야 자연과학 > 물리학

논문수 3 이용수 60

N.-E. Lee

소속기관 Sungkyunkwan University

주요연구분야 자연과학 > 물리학

논문수 25 이용수 472

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