Maskless 노광공정을 위한 LDI(Laser Direct Imaging) 시스템 개발 및 단일 레이저 빔 에너지 분포 분석

이수진; 김종수; 신봉철; 김동우; 조명우

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자료유형: 학술저널

저자정보: 이수진 (인하대학교) 김종수 (인하대학교) 신봉철 (인하대학교) 김동우 (University of Waterloo) 조명우 (인하대학교)

저널정보: 한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국공작기계학회지 Vol.19 No.6

발행연도: 2010.12

수록면: 834 - 840 (7page)

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Photo lithography process is very important technology to fabricate highly integrated micro patterns with high precision for semiconductor and display industries. Up to now, mask type lithography process has been generally used for this purpose; however, it is not efficient for small quantity and/or frequently changing products. Therefore, in order to obtain higher productivity and lower manufacturing cost, the mask type lithography process should be replaced. In this study, a maskless lithography system using the DMD(Digital Micromirror Device) is developed, and the exposure condition and optical properties are analyzed and simulated for a single beam case. From the proposed experimental conditions, required exposure experiments were preformed, and the results were investigated. As a results, 10 ㎛ spots can be generated at optimal focal length.

#Maskless lithography(마스크리스 리소그래피) #Digital Micromirror Device(디지털 마이크로미러 디바이스) #Single beam simulation(단일 빔 시뮬레이션)

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주재영, 김성훈, 변홍석, 이관행, 정성호. 디지털마이크로미러소자를 동적마스크 패턴생성기로 응용한 마이크로광조형. Journal of the Korean Society for Precision Engineering. 2006

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