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이승훈 (한국기계연구원) 김도근 (한국기계연구원) 강재욱 (한국기계연구원) 김태곤 (연세대학교) 민병권 (연세대학교) 김종국 (한국기계연구원)
저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.28 No.1
발행연도
2011.1
수록면
19 - 23 (5page)

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Recently, focused ion beam (FIB) applications have been investigated for the modification of VLSI circuit, the MEMS processing, and the localized ion doping. A multi aperture FIB system has been introduced as the demands of FIB applications for high speed and large area processing increase. A liquid metal ion source has problems, a large angular divergence and a metal contamination into a substrate. In this study, a gas ion source was introduced to replace a liquid metal ion source. The gas ion source generated inductively coupled plasma (ICP) in a quartz tube (diameter: 45 ㎜). Ar gas fed into the quartz was ionized by a 2 turned radio frequency antenna. The Ar ions were extracted by 2 extraction grids. The maximum extraction voltage was 10 ㎸. A numerical simulation was used to optimize the design of extraction grids and to predict an ion trajectory. As a result, the maximum ion current density was 38 ㎃/㎠ and the spread of ion energy was 1.6 % for the extraction voltage.

목차

1. 서론
2. 실험 장비 구성
3. 인출 전압 및 전력에 따른 이온빔 전류 밀도 변화
4. 인출 이온빔 에너지 Full Width Half Maximum(FWHM) 측정
5. 결론
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