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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.5
- 수록면
- 6 - 11 (6page)
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반도체 및 LCD 세정공정에 사용된 오존수 속의 용해오존을 분해할 수 있는 시스템을 개발함으로써 향후 고성능-저가격의 반도체, LCD PR 박리 및 세정 공정에 적용할 수 있는 핵심 공정기술을 확보하였다. 이 기술을 적용하면 반도체 웨이퍼 및 LCD 평판의 PR 박리 세정 공정을 보다 빠르고 저렴한 비용으로 수행할 수 있으므로 반도체 및 LCD 공정 생산성의 향상을 꾀할 수 있다.
목차
요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 오존 기능수에 의한 각종 공정
Ⅲ. 오존 분해 장치의 구성
Ⅳ. 실험 결과 및 분석
Ⅴ. 결론
참고문헌
저자소개
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1. [학술지(정기간행물)] - 김한성 / 2004 / 수계/준수계 세정제의 개발 및 전자부품 세정공정 현장적용 연구 / 청정기술 10 (2) : 61 ~ 72
2. [학술지(정기간행물)] - 채상훈 / 2004 / 오존수를 이용한 감광막 제거 공정에 관한 연구 / 전기전자재료학회논문지 17 (11) : 1143 ~ 1148
3. [학술지(정기간행물)] - 손영수 / 2004 / PR 제거공정 적용을 위한 오존 수 생성기술 연구 / 전자공학회논문지 - SD 41 (12) : 1107 ~ 1114
4. [학술지(정기간행물)] - 문세호 / 2009 / 반도체/LCD PR 제거용 EC의 재이용 기술에 관한 연구 / 전자공학회논문지 - SD 46 (10) : 25 ~ 30
2. [학술지(정기간행물)] - 채상훈 / 2004 / 오존수를 이용한 감광막 제거 공정에 관한 연구 / 전기전자재료학회논문지 17 (11) : 1143 ~ 1148
3. [학술지(정기간행물)] - 손영수 / 2004 / PR 제거공정 적용을 위한 오존 수 생성기술 연구 / 전자공학회논문지 - SD 41 (12) : 1107 ~ 1114
4. [학술지(정기간행물)] - 문세호 / 2009 / 반도체/LCD PR 제거용 EC의 재이용 기술에 관한 연구 / 전자공학회논문지 - SD 46 (10) : 25 ~ 30
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