지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.6
- 수록면
- 245 - 250 (6page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (2)
- 이 논문의 후속연구가 궁금하신가요?
- 연관 학술논문 또는 학술발표를 통해 보다 발전된 연구결과를 확인하실 수 있습니다.
- 이 논문의 연구 히스토리 확인하기
초록· 키워드
오류제보하기
An UV/thermal hybrid nanoimprint lithography system was designed and implemented for the pattern transfer to flexible substrates. This system can utilize a plate stamp, roll stamp, and film stamp. For all cases of using those stamps, this system is also switchable an UV or thermal nanoimprint lithography mode. This paper shows how to design the heating and UV curing plates and proposes how to change them easily. Because the pressure condition and the speed of the press roller varies by the characteristics of the stamp and substrate, all the parameters related to the nanoimprint lithography have to adjustable. Some transferred patterns are shown in this paper to verify the performance of the hybrid nanoimprint lithography system. The flexible substrates with nano-scale patterns on them will be key components for next generation technologies such as flexible displays, bendable semi-conductors, and solar cells.
목차
Abstract
1. 서론
2. 하이브리드 방식 나노임프린트 시스템
3. 시스템 설계 및 제작
4. 나노임프린트 시스템에 의한 패턴 전사
5. 결론
후기
참고문헌
참고문헌 (1)
참고문헌 신청
이 논문의 저자 정보
이 논문과 함께 이용한 논문
유연기판을 위한 나노임프린트리소그래피 시스템 설계
임형준
,
이재종
,
최기봉
외 2명
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2011
.04
박막 소자의 광학식 전사를 위한 접촉 메커니즘
임형준
,
이재종
,
김기홍
외 1명
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2014
.05
전사 공정을 이용한 실리콘 유연 박막의 기계적 신뢰성 평가
천민우
,
양민
,
좌성훈
외 4명
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2013
.10
탄성힌지 가이드를 이용한 롤 나노임프린트 리소그래피의 평행도 보상 메커니즘
임형준
,
이재종
,
최기봉
외 4명
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2013
.05
SiC 단체와 SiC/SiC 복합재료의 충격파괴거동
서민수
,
서창민
대한기계학회 춘추학술대회
2012
.02
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2013-552-000512727