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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.28 No.10
- 발행연도
- 2011.10
- 수록면
- 1,217 - 1,223 (7page)
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In this paper, the dielectric barrier discharge plasma generator has been studied for producing of the high concentration ozone gas. Proposed plasma generator has the structure of extremely narrow discharge air gap(0.15㎜) in order to realize the high electric field discharge. We investigate the performance of the dielectric barrier discharge plasma generator experimentally and the results show that the generator has very high ozone concentration characteristics of 13.7[wt%/O₂] at the oxygen flow rate of 1[ℓ/min] of each discharge cell. So, we confirmed that the proposed plasma generator is suitable for the high concentration ozone production facility of the eco-friendly ozone functional water cleaning system in the electronic components cleaning process.
목차
1. 서론
2. 유전체장벽 방전 플라즈마 생성장치
3. 실험장치 구성
4. 성능실험 및 결과
5. 결론
참고문헌
참고문헌 (10)
참고문헌 신청
Ruzyllo, J / 1992 / Cleaning Technology inSemiconductor Device Manufacturing / Electrochemical Society :18
Wei, J / 1998 / Cleaning Technologyin Semiconductor Device manufacturing V / TheElectrochemical Society, Inc :496~504
Nelson,S / 1999 / Ozonated Water for Wafer Cleaning andPhotoresist Removal / Solid State Technology :107~112
De Gendt, S. / 1998 / A novelResist and Post-Etch Residue Removal process UsingOzonated Chemistry / Solid State Technology :57~60
Abe, T. / 2001 / Photoresist Stripping Using Alkaline AcceleratorContaining Wet-Vapor / Solid State Phenomena 76:231~234
Wei, J / 1998 / Cleaning Technologyin Semiconductor Device manufacturing V / TheElectrochemical Society, Inc :496~504
Nelson,S / 1999 / Ozonated Water for Wafer Cleaning andPhotoresist Removal / Solid State Technology :107~112
De Gendt, S. / 1998 / A novelResist and Post-Etch Residue Removal process UsingOzonated Chemistry / Solid State Technology :57~60
Abe, T. / 2001 / Photoresist Stripping Using Alkaline AcceleratorContaining Wet-Vapor / Solid State Phenomena 76:231~234
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