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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 ISOCC ISOCC 2010 Conference
발행연도
2010.11
수록면
154 - 157 (4page)

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Conventional structured ASIC still suffers from large delay and area due to the use of homogeneous array of tiles. We propose a new lithography method called selectively patterned masks (SPM), which enables more than one type of tiles to be used in structured ASIC. This structured ASIC using mixture of different tiles relaxes regularity. To assess SPM concept, A new structured ASIC is proposed; tile and routing architecture, and routing algorithm are all addressed. Experiment results using 45nm technology show that proposed concept can push the limit of structured ASIC closer to traditional ASIC.

목차

Abstract
Ⅰ. INTRODUCTION
Ⅱ. SELECTIVELY PATTERNED MASKS
Ⅲ. STRUCTURED ASIC DESIGN WITH SPM
Ⅳ. REGULAR ROUTING
Ⅴ. EXPERIMENTAL RESULTS
Ⅵ. CONCLUSION
REFERENCES

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