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자료유형
학술저널
저자정보
양원균 (군산대학교) 주정훈 (군산대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제45권 제2호
발행연도
2012.4
수록면
53 - 60 (8page)

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Modulated Pulse Power (MPP) magnetron sputtering is a new high-power pulsed magnetron sputtering(HPPMS) technology which overcomes the low deposition rate problem by modulating the pulse voltage shape, amplitude, and the duration. Highly ionized magnetron sputtering can be performed without arcing because it can be controlled as multiple steps of micro pulses within one overall pulse period in the range of 500-3,000 μs. In this study, the various waveforms of discharge voltage and current for micro pulse sets of MPP were investigated to find the possibility of controlling the strongly ionized plasma mode. Enhanced ionization of the sputtered metal atoms was obtained by OES. Large grained columnar structure can be grown by the strongly ionized plasma mode in the AZO deposition using MPP. In the most highly ionized deposition condition, the preferred orientation of (002) plane decreased, and the resistivity, therefore, increased by the plasma damage.
#AZO #TCO #Modulated pulse power #Sputtering

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (17)

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1. [학술지(정기간행물)] - V. Kouznetsov / 1999 / / Surf. Coat. Technol 122 : 290 ~ google schola 2. [학술지(정기간행물)] - K. Macak / 2000 / / J. Vac. Sci. Technol. A 18 : 1533 ~ google schola 3. [학술지(정기간행물)] - D. J. Christie / 2004 / / J. Vac. Sci. Technol. A 22 : 1415 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - J. Alami / 2005 / / J. Vac. Sci. Technol. A 23 : 278 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - K. Bobzin / 2008 / / J. Mater. Process. Technol 209 : 165 ~ google schola

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