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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
석정민 (서울대학교) 김남웅 (동양미래대학교)
저널정보
한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조시스템학회지 Vol.21 No.3
발행연도
2012.6
수록면
473 - 478 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2012

UV-NIL 공정의 기포 결함에 대한 해석적 및 수치적 연구
석정민 ,  김남웅 한국생산제조학회지 2012.06 학술저널
UV-NIL 공정의 기포 결함 연구
석정민 ,  김남웅 한국생산제조학회 학술발표대회 논문집 2012.04 학술대회자료

초록· 키워드

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In this paper, the air bubble formation mechanism in the rectangular and triangular line-and-space pattern during dispensing UV Nanoimprint Lithography (UV-NIL) at an atmospheric condition is studied. To investigate the air bubble formation, an analytic model based on geometric approach and a numerical model based on CFD(computational fluid dynamics) were used in the analysis. It was found in the numerical analysis that every time the flow front passed through a corner of the pattern, it proceeded with a newly formed shape, occurring due to interface reconfiguration, since the flow fronts were formed such that they minimized the surface energy. Moreover, the conditions for the air bubble formation were investigated by applying the analytic analysis based on geometric approach and the numerical analysis. Good overall agreement was found between the analytic and numerical analysis.
#UV Nanoimprint lithography(자외선 나노임프린트 공정) #Air bubble(기포) #Computational fluid dynamics(전산유체역학) #Non-vacuum environment(비진공 환경) #Contact angle(접촉각)

목차

Abstract
1. 서론
2. 기포 생성 유체 유동 수치 해석(CFD) 모델
3. 기포 생성 기하학적 모델
4. 결과
5. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (14)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - Chou, S. Y / 1997 / Imprint Lithography with Sub-10 nm Feature Size and High Throughput / Microelectronic Engineering 35 (1-4) : 237 ~ 240 google schola 2. [학술지(정기간행물)] - Morihara, D / 2009 / Numerical study on Bubble Trapping in UV-nanoimprint Lithography / Microelectronic Engineering 86 (4-6) : 684 ~ 687 google schola 3. [학술지(정기간행물)] - Nagaoka, Y / 2009 / Simulation study on Bubble Trapping in UV Nanoimprint Lithography / Journal of Photopolymer Science and Technology 22 (2) : 171 ~ 174 google schola 4. [학술지(정기간행물)] - Hiroshima, H / 2003 / Elimination of Pattern Defects of Nanoimprint under Atmospheric Condition / Japanese Journal of Applied Physics 42 : 3849 ~ 3853 google schola 5. [학술지(정기간행물)] - Hiroshima, H / 2007 / Control of Bubble Defects in UV Nanoimprint / Japanese Journal of Applied Physics 46 (9) : 6391 ~ 6394 google schola

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