유전알고리즘과 커널 부분최소제곱회귀를 이용한 반도체 공정의 가상계측 모델 개발

김보건; 염봉진

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김보건 (삼성전자) 염봉진 (한국과학기술원)

저널정보: 대한산업공학회 산업공학 (IE interfaces) 산업공학 (IE interfaces) 제23권 제3호

발행연도: 2010.9

수록면: 229 - 238 (10page)

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Virtual metrology (VM), a critical component of semiconductor manufacturing, is an efficient way of assessing the quality of wafers not actually measured. This is done based on a model between equipment sensor data (obtained for all wafers) and the quality characteristics of wafers actually measured. This paper considers principal component regression (PCR), partial least squares regression (PLSR), kernel PCR (KPCR), and kernel PLSR (KPLSR) as VM models. For each regression model, two cases are considered. One utilizes all explanatory variables in developing a model, and the other selects significant variables using the genetic algorithm (GA). The prediction performances of 8 regression models are compared for the short- and long-term etch process data. It is found among others that the GA-KPLSR model performs best for both types of data. Especially, its prediction ability is within the requirement for the short-term data implying that it can be used to implement VM for real etch processes.

#virtual metrology #genetic algorithm #kernel partial least squares regression

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김보건

소속기관 삼성전자

주요연구분야 공학 > 산업공학

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염봉진

소속기관 한국과학기술원

주요연구분야 공학 > 산업공학 공학 > 기타 공학

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