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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
최두순 (인하공업전문대학) 김기돈 (한국기계연구원)
저널정보
한국소성·가공학회 소성·가공 소성가공 제18권 제3호
발행연도
2009.6
수록면
268 - 273 (6page)

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Ultraviolet nanoimprint lithography (UV-NIL), which is performed at a low pressure and at room temperature, is known as a low cost method for the fabrication of nano-scale patterns. In the patterning process, maintaining the uniformity of the residual layer is critical as the pattern transfer of features to the substrate must include the timed etch of the residual layer prior to the etching of the transfer layer. In pursuit of a thin and uniform residual layer thickness, the initial volume and the position of each droplet both need to be optimized. However, the monomer mixtures of resin had a tendency to evaporate. The evaporation rate depends on not only time, but also the initial volume of the monomer droplet. In order to decide the initial volume of each droplet, the accurate prediction of evaporation behavior is required. In this study, the theoretical model of the evaporation behavior of resin droplets was developed and compared with the available experimental data in the literature. It is confirmed that the evaporation rate of a droplet is not proportional to the area of its free surface, but to the length of its contact line. Finally, the parameter of the developed theoretical model was calculated by curve fitting to decide the initial volume of resin droplets.
#UV-nanoimprint #Droplet #Evaporation

목차

Abstract
1. 서론
2. 이론적 모델
3. 검증 및 고찰
4. 결론
참고문헌

참고문헌 (11)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - S. Y. Chou / 1996 / Nanoimprint Lithography / J. Vac. Sci. Technol. B 14 (6) : 4129 ~ 4133 google schola 2. [학술지(정기간행물)] - S. Y. Chou / 1995 / Imprint of Sub-25 nm Vias and Trenches in Polymers / Appl. Phys. Lett. 67 (21) : 3114 ~ 3116 google schola 3. [학술지(정기간행물)] - M. Otto / 2001 / Characterization and Application of a UV-based Imprint Technique / Microelectron. Eng. 57 : 361 ~ 366 google schola 4. [학술지(정기간행물)] - J. H. Jeong / 2004 / UV-nanoimprint Lithography Using an Elementwise Patterned Stamp / Microelectron. Eng. 75 : 165 ~ 171 google schola 5. [학술지(정기간행물)] - H. Hiroshima / 2002 / Uniformity in Patterns Imprinted Using Photo-Curable Liquid Polymer / Jpn. J. Appl. Phys. 41 : 4173 ~ 4177 google schola

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2014-551-000222230