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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2012.11
- 수록면
- 1,767 - 1,772 (6page)
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The wafer carrier is one of the important equipments in semiconductor manufacturing process, which is used to protect the contaminants on the silicon wafer using nitrogen gas. But this device shows the nonuniform internal flow patterns due to the existing structural feature. In this study, we have numerically investigated the flow characteristics in the wafer carrier according to the change of discharge port shapes (basic model, 13-hole model, 26-hole model), using the commercial code, A&SYS CFX. Also, we compared the numerical results of the internal flow patterns with experimental ones for various operating conditions using PIV(Particle Image Velocimetry). The streamline, velocity and pressure distributions in the wafer carrier are graphically depicted for various conditions.
목차
Abstract
1. 서론
2. 수치해석
3. 실험방법
4. 결과 및 고찰
5. 결론
참고문헌
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