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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Seonghearn Lee (Hankuk University of Foreign Studies)
저널정보
대한전자공학회 전자공학회논문지 전자공학회논문지 제50권 9호
발행연도
2013.9
수록면
55 - 59 (5page)

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Sub-0.1㎛로 스케일이 감소함에 따라 기생 저항 효과가 크게 발생되는 dc Ids 측정 데이터 없이 측정 S-파라미터로부터 얻어진 RF Ids를 사용하여 벌크 MOSFET의 포화영역에서 게이트 전압 종속 유효 캐리어 속도를 추출하는 새로운 방법이 개발 되었다. 이 방법은 바이어스 종속 기생 게이트-소스 캐패시턴스와 유효 채널 길이의 복잡한 추출 없이 포화영역의 유효 캐리어 속도를 추출할 수 있게 한다. 이러한 RF 기술을 사용하여 벌크 포화 속도를 초과하는 전자 속도 overshoot 현상이 0.065㎛ 게이트 길이의 벌크 N-MOSFET에서 관찰되었다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. INTRODUCTION
Ⅱ. NEW EXTRACTION METHOD
Ⅲ. RESULTS AND DISCUSSION
Ⅳ. CONCLUSIONS
REFERENCES

참고문헌 (8)

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2014-560-002847316