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당현우 (제주대학교) 김형찬 (한국생산기술연구원) 고정범 (제주대학교) 양영진 (제주대학교) 양봉수 (제주대학교) 최경현 (제주대학교) 도양회 (제주대학교)
저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.31 No.6
발행연도
2014.6
수록면
483 - 489 (7page)

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In this study, experiments were conducted for micro pattern printing to combine solution atomization process and stencil printing based on electrospray deposition. The stencil mask fabricated by etching the photosensitive glass placed below 0.3 mm distance to substrate has 100 um line width. The process parameters of electrospray deposition system for the atomization of the solution are applied voltage and supply flow rate of the solution. Meniscus angle of cone-jet was optimized by varying the supply flow rate from 0.3 ml/hr to 0.7 ml/hr. Voltage condition was verified having symmetric cone-jet angle and no pulsation at 8.5 kV applied voltage. In addition, a number of micro patterns are printed using a single 1 step process by solution atomization process. Variable line width of approximate 100 um was confirmed by changing conditions of solution atomization regardless of the pattern size of stencil mask.

목차

1. 서론
2. 정전분무 기반의 용액 미립화 기술
3. 스텐실 프린팅 마스크 제작 및 구성
4. 미세패턴 인쇄 시스템 구성
5. 미세 패턴을 위한 용액 미립화 공정 최적화
6. 마이크로 스텐실 프린팅의 미세패턴 분석
7. 결론
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참고문헌 (14)

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