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실리콘 태양전지 제조에 기판으로 사용되는 156 mm 실리콘 웨이퍼의 제작 공정에 있어서 제품 불량 및 성능 저하를 유발하는 웨이퍼 표면 오염원을 분석하였으며, 이를 제거하기 위한 오존수 세정에 대하여 실험하였다. 오염물질은 웨이퍼 절단 공정에서 사용되는 슬러리 및 세척액 속에 포함된 유기물과 소잉 와이어로부터 분리된 미세입자에 의해 형성되며, 오존수 세정공정을 통하여 제거할 수 있었다. 이 기술을 적용하면 태양전지용 웨이퍼를 저렴하고 효율적이며 친환경적으로 제조할 수 있다.
목차
요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 태양전지용 웨이퍼 세정결과 분석
Ⅱ. 오존 기능수의 제조
Ⅳ. 태양전지 웨이퍼 세정 실험 및 분석
Ⅴ. 결론
REFERENCES
참고문헌 (9)
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1. [학술지(정기간행물)] - 김한성 / 2004 / 수계/준수계 세정제의 개발 및 전자부품 세정공정 현장적용 연구 / 청정기술 10 (2) : 61 ~ 72
2. [학술지(정기간행물)] - 채상훈 / 2004 / 오존수를 이용한 감광막 제거 공정에 관한 연구 / 전기전자재료학회논문지 17 (11) : 1143 ~ 1148
3. [학술지(정기간행물)] - Nelson, S. / 1999 / Ozonated Water for Wafer Cleaning and Photoresist Removal / Solid State Technology : 107 ~ 112
4. [학술지(정기간행물)] - De Gendt, S. / 1998 / A novel Resist and Post-Etch Residue Removal process Using Ozonated Chemistry / Solid State Technology : 57 ~ 60
5. [학술대회논문] - Y. Son / 2011 / Development of the green cleaning technology for the silicon solar wafer / Journal of KSPE 28 (10) : 1 ~ 7
2. [학술지(정기간행물)] - 채상훈 / 2004 / 오존수를 이용한 감광막 제거 공정에 관한 연구 / 전기전자재료학회논문지 17 (11) : 1143 ~ 1148
3. [학술지(정기간행물)] - Nelson, S. / 1999 / Ozonated Water for Wafer Cleaning and Photoresist Removal / Solid State Technology : 107 ~ 112
4. [학술지(정기간행물)] - De Gendt, S. / 1998 / A novel Resist and Post-Etch Residue Removal process Using Ozonated Chemistry / Solid State Technology : 57 ~ 60
5. [학술대회논문] - Y. Son / 2011 / Development of the green cleaning technology for the silicon solar wafer / Journal of KSPE 28 (10) : 1 ~ 7
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