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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2014.11
- 수록면
- 1,533 - 1,537 (5page)
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WO₃/Ag/WO₃ multilayer was researched by using RF magnetron sputtering with transparent electrode. Process gas flow ratio with Ar/O₂ were selected the optimum conditions at 70sccm/2sccm and WO₃ thin film at its conditions was appeared at transmittance about 80% in the visible light region to the average.
WO₃/Ag/WO₃ multilayer thin films were fabricated from the same process condition which was the same gas flow ratio of Ar and O₂ WO₃/Ag/WO3 thin films were appeared transmittance about 93% and sheet resistance about 6.41Ω/□. From the SEM images, each thin films were appeared when WO₃ is 40㎚ and O₂ is 10㎚.
WO₃/Ag/WO₃ multilayer thin films were fabricated from the same process condition which was the same gas flow ratio of Ar and O₂ WO₃/Ag/WO3 thin films were appeared transmittance about 93% and sheet resistance about 6.41Ω/□. From the SEM images, each thin films were appeared when WO₃ is 40㎚ and O₂ is 10㎚.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References
참고문헌 (0)
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