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실리카 입자가 첨가된 광경화성 임프린트용 복합체를 제조하여 실리카 양에 따른 경화 특성과 전사된 수 백 나노미터 크기의 임프린트 패턴 형성에 관한 결함을 조사하였다. 상온에서 UV 경화한 임프린트 레진은 실리카 양 이 증가할수록 탄성률이 커지고 수축률이 줄어드는 것을 알 수 있었다. 그러나 실리카 입자의 양이 7 wt% 이상인 경우 전사된 나노기둥끼리 서로 달라붙는 결함을 보이는데, 이는 실리카 입자가 광반응을 방해하여 임프린트 레진 의 경화가 불완전하게 되면서 광경화된 레진의 점성이 증가했기 때문이다. 임프린트 레진에 실리카 입자를 충전제로 사용하면 경화 후 나노 패턴의 강도를 증가하여 형태를 유지하는데 도움이 되지만, 실리카 양이 7 wt% 이상이 되면 오히려 광반응 전환율이 떨어져 임프린트 공정에 의한 나노 패턴의 전사가 어려운 것을 알 수 있다.
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1. [학술지(정기간행물)] - S. N. Kang / 2006 / / The Magazine of the IEEK 33 : 39 ~
2. [학술지(정기간행물)] - H. Schift / 2008 / / J. Vac. Sci. Technol., B 26 : 458 ~
3. [학술지(정기간행물)] - J. Haisma / 1996 / / J. Vac. Sci.Technol B14 : 4124 ~
4. [학술지(정기간행물)] - B. S. Bae / 2001 / / Polym. Sci. Technol. 12 : 716 ~
5. [학술지(정기간행물)] - 박지원 / 2010 / 광원 경화형 소재의 수축률평가를 통한 광경화 거동 평가 / 접착 및 계면 11 (2) : 57 ~ 62
2. [학술지(정기간행물)] - H. Schift / 2008 / / J. Vac. Sci. Technol., B 26 : 458 ~
3. [학술지(정기간행물)] - J. Haisma / 1996 / / J. Vac. Sci.Technol B14 : 4124 ~
4. [학술지(정기간행물)] - B. S. Bae / 2001 / / Polym. Sci. Technol. 12 : 716 ~
5. [학술지(정기간행물)] - 박지원 / 2010 / 광원 경화형 소재의 수축률평가를 통한 광경화 거동 평가 / 접착 및 계면 11 (2) : 57 ~ 62
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