Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Dissolution Characteristics and Surface Morphology of Chemically Amplified Positive Resists in X-Ray Lithography

Ji ,  o Nakamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Charge Reducing Effect of Chemically Amplified Resist

Tetsu ,  o Nakasugi ,  Shunko Magoshi 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Ion Beam Lithography for Submicron Structure Fabrication

백홍렬

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Acid Diffusion Control in Chemically Amplified Positive Resists

김진백 ,  권영길 ,  최재학

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

A New Simulation Model of Electron Beam Lithography for Manufacturing

함영목 ,  이원규 ,  김수환 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography

정선화 ,  조경천 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .10

Optical Resist Process Technology for Deep-Submicron Patterning

문승찬 ,  복철규 ,  김진섭 외 3명

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

New chemically Amplified Deep-UV Resist Based on Difunctional Protecting Group

이대엽 ,  이시형 ,  정시영 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Current Status and Future of Electron Beam Lithography

백기호 ,  김영식

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Resist 표면 거칠기 예측을 위한 전자빔 리소그라피 시뮬레이션에 관한 연구

김학 ,  한창호 ,  이기용 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

A PED-stabilized Chemically Amplified Resist

김진백 ,  최재학 ,  정민호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Synthesis of Highly-Sensitive Resists Containing Photoacid generator for Electron Beam Lithography

김민정 ,  유재범 ,  이고은 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2009 .10

저에너지 전자빔 리소그라피의 Contrast 특성 분석

김진석 ,  김한수 ,  이동윤 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2012 .05

극자외선 리소그래피용 화학증폭형 레지스트

최재학 ,  노영창 ,  홍성권

공업화학

2006 .01

E-Beam Lithography 기술

손상희 ,  곽계달

전자공학회잡지

1984 .10