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이용수
요약
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 토론
Ⅳ. 결론
참고문헌
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고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구 ( A Study on Photoresist Stripping Using High Density Oxygen Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
O₂와 N₂ 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
산소 플라즈마의 특성과 포토레지스트 제거에의 응용 ( Characteristics of the Oxygen Plasma and Its Application to Photoresist Stripping )
전자공학회논문지
1987 .01
주기적인 축방향 자기장을 추가한 유도결합형 플라즈마 장치에서의 감광제 제거공정 개발
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
O₂와 N₂ 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
유도 결합형 플라즈마를 이용한 감광제 제거 반응로의 설계 ( Design of Inductively Coupled Plasma Ashing Chamber )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
유도 결합형 플라즈마를 이용한 감광제 제거 반응로의 설계
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
실험계획법을 이용한 감광제 건식제거 공정의 최적화
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
산소 플라즈마를 이용한 Photo Resist 제거 ( Photo Resist Stripping by Oxygen Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
Hydrogen Plasma Characteristics for Photoresist Stripping Process in a Cylindrical Inductively Coupled Plasma
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2013 .08
Fabrication of 100㎛ thick mold and electroplating using thick photoresist
대한전기학회 학술대회 논문집
2002 .07
Photoresist Technology
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
Development of Novel Photoresist Removal Process using Multi-phase Plasma
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
The Residue Formation in the Stripping of Ion Implanted Photoresist
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
감광제의 노광변수 추출을 위한 효율적인 전산모사기 ( Effective Lithography Simulator for Extraction of Photoresist Exposure Parameter )
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
감광제의 노광변수 추출을 위한 효율적인 전산모사기
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
Analysis of Chemical and Morphological Changes of Phenol Formaldehyde-based Photoresist Surface caused by O2 Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2007 .01
포스파젠계 감광제를 사용한 포지형 i-선 포토레지스트
대한전자공학회 학술대회
1995 .06
산소 플라즈마 처리에 따른 OLED의 광학 및 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2011 .07
EUV 리소그래피의 감광제 패터닝 공정에 대한 전산모사
대한기계학회 춘추학술대회
2018 .04
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