플라즈마 식각공정 시 By-product와 Etchant gas를 이용한 식각 종료점 검출

김동일; 박영국; 한승수

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김동일 박영국 한승수

저널정보: 한국전기전자학회 전기전자학회논문지 전기전자학회논문지 제19권 제4호

발행연도: 2015.12

수록면: 541 - 547 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2016

식각 특성변화와 Etchant Gas, By-product를 이용한 플라즈마 식각공정 진단

김동일 일반 2016.01 학위논문

2015

플라즈마 식각공정 시 By-product와 Etchant gas를 이용한 식각 종료점 검출

김동일 , 박영국 , 한승수 전기전자학회논문지 2015.12 학술저널

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현재 반도체 제조 공정에서 집적회로의 소자 크기가 점점 작아짐에 따라 플라즈마 식각 공정에서의 식각 종료점 검출이 더 어려워지고 있다. 식각 종료점 검출은 위해서는 반도체 장비에 다양한 종류의 센서를 설치하고 이 센서를 통해 데이터를 얻고 분석해야 한다. 기존의 식각 종료점 검출 방식은 주로 By-product의 OES 데이터를 분석하여 진행되었는데 본 연구에서는 By-product 와 Etchant gas 의 OES 데이터를 함께 분석하여 식각 종료점 검출 결과에 신뢰성을 더 높이고자 하였다. 또한, 데이터 분석을 위해 OES-SNR, PCA, Polynomial Regression, eHMM 등의 기법들을 사용하여 진행하였다.

#By-product #Endpoint detection #Etchant gas #OES(Optical Emission Spectroscopy) #Plasma etching process

참고문헌 (5)

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[학술지(정기간행물)] - Han, Yi-Seul / 2012 / Endpoint Detection in Plasma Etching Using Principal Component Analysis and Support Vector Machine / ECS Transactions 44 (1) : 1075 ~ 1080

[학위논문] - Jin-Su Park / 2008 / EndPoint Detection Method of Plasma Etching Process Using Optical / MS / Myongji Univ.

[학술지(정기간행물)] - KIM, Seung-Gyun / 2012 / Endpoint Detection in Low Open Area Ratio Plasma Etching Using Hybrid Method / ECS Transactions 44 (1) : 1081 ~ 1086

[학술지(정기간행물)] - SHIN, Sung-Hwan / 2014 / Endpoint Detection for Single Layer Plasma Etch Using Hybrid Fuzzy Inference Systems / ECS Transactions 60 (1) : 875 ~ 880

[단행본] - A. Chervonenkis / 1974 / Theory of Pattern Recognition

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