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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.4
- 수록면
- 1,993 - 1,998 (6page)
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반도체 산업은 지속적으로 비약적인 발전을 이루어내면서 점점 고집적회로를 제작하기 위하여 패턴의 미세 화가 이루어지게 되었다. 현재 미세 나노패턴의 형성을 위하여 여러층의 하드마스크가 사용되고 있으며, 화학증기증 착(CVD)공정을 이용하여 형성한다. 이에 본 연구에서는 스핀공정(spin-on process)이 가능한 유-무기 하이브리드 중합 체를 이용한 단일층의 하드마스크를 제작하였는데, 하드마스크 내의 무기계 성분이 감광층 보다 쉽게 식각되는 반면 에 하드마스크의 유기계 성분으로 인해 substrate층 보다 덜 식각되었다. 유-무기 하이브리드 중합체를 이용한 하드마 스크막의 광학 및 표면 특성을 조사하였고, 감광층과 하드마스크막의 식각비를 비교하여 유-무기소재의 하이브리드 중합체에 대한 미세패턴을 형성시킬 수 있는 하드마스크막으로써의 유용성을 확인하였다.
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참고문헌 (7)
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1. [기타자료] - 주대영 / 2007 / 반도체산업의 2020비전과 전략 / KIET
2. [기타자료] - 한국반도체연구조합 / 2009 / 반도체 산업동향 / 한국반도체연구조합
3. [단행본] - Y. Wei / 2009 / Advanced processes for 193-nm immersion lithography / SPIE Press
4. [학술지(정기간행물)] - 조현모 / 2009 / 반도체 나노 패터닝 구현 재료 / polymer science and technology 20 (5) : 472 ~ 480
5. [학술지(정기간행물)] - V. Sipani / 2006 / Fundamental characterization of silicon-containing spin-on hardmask for 193nm photolithography / SPIE 6153 : 61532U ~
2. [기타자료] - 한국반도체연구조합 / 2009 / 반도체 산업동향 / 한국반도체연구조합
3. [단행본] - Y. Wei / 2009 / Advanced processes for 193-nm immersion lithography / SPIE Press
4. [학술지(정기간행물)] - 조현모 / 2009 / 반도체 나노 패터닝 구현 재료 / polymer science and technology 20 (5) : 472 ~ 480
5. [학술지(정기간행물)] - V. Sipani / 2006 / Fundamental characterization of silicon-containing spin-on hardmask for 193nm photolithography / SPIE 6153 : 61532U ~
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