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저널정보
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 한국결정성장학회지 제21권 제2호
발행연도
2011.1
수록면
65 - 69 (5page)

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RF 마그네트론 스퍼터링으로 가스조성비와 기판의 온도를 변화시키면서 TiO2 박막을 성장하였다. XRD, SEM,AFM 및 분광광도계를 이용하여 박막의 구조와 광학적 특성을 고찰하였다. 박막에는 아나타제 결정성만 관찰되었으며 온도가 높아질수록 회절 피크의 강도가 증가하였다. 산소농도가 증가함에 따라 기둥구조의 결정성장률이 감소되었으며 굴절률과 흡수율은 감소하였다. TiO2 박막은 300~400oC의 기판온도와 10 %의 O2 분위기에서 성장한 박막의 표면이 매끄럽고투과특성이 우수한 박막을 얻을 수 있었다.
#TiO2 #RF magnetron sputtering #Working gas ratio

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A. Krasilnikova Sytchkova / 2007 / Optical, electrical, structural and microstructural characteristics of rf sputtered ITO films developed for art protection coatings / Appl. google schola C.C. Mardarea / 2003 / Deposition of bioactive glass-ceramic thin-films by RF magnetron sputtering / Journal of the European Ceramic Society 23 : 1027 ~ google schola H. Poelman / 2007 / Magnetron sputter deposition for catalyst synthesis / Applied Catalysis A: General 325 : 213 ~ google schola M. Kitano / 2007 / Recent developments in titanium oxide-based photocatalysts / Applied Catalysis A: General 325 : 1 ~ google schola M. Maeda / 2006 / Characterization of titaniumtin composite oxide films and their visible-light photocatalytic properties / Applied Catalysis A: General 302 : 305 ~ google schola

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