우리는 Ag가 도핑된 비정질 칼코게나이드 박막의 홀로그래픽 격자 형성에 대해 연구해왔다. 본 논문에서는 532 nm의 파장을 가지며, P-편광된 DPSS 레이저를 이용하여 홀로그래픽 격자를 형성하였다. 회절효율은 첫 번째 회절빔을 이용하여 측정하였다. Ag의 두께에 따른 Ag/AsGeSeS 이중층 박막의 회절효율을 측정하였으며, 최대 회절 효율은 Ag 두께 60 nm에서 0.96%를 얻을 수 있었다.
In this study, we have investigated the holographic grating formation on Ag-doped amorphous As-Ge-Se-S thin films. The dependence of diffraction efficiency as afunction of Ag layer thickness has been investigated in this amorphous chalcogenide films. Holographic gratings was formed using [P:P]polarized Diode Pumped Solid State laser (DPSS, 532.0 nm). The diffraction efficiency was obtained by +1st order intensity. The results were shown that the diffraction efficiency of Ag/AsGeSeS double layer thin films for the Ag thickness, the maximum grating diffraction efficiency using 60 nm Ag layer is 0.96%.