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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제26권 제5호
발행연도
2013.1
수록면
397 - 400 (4page)

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대향타겟식 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 결정화된 ITO 박막을 다양한 온도에서 증착하였다. ITO 박막은 50℃ 온도의 Si 기판과 75℃ 온도의 PET 기판에서 결정화가 시작되었다. 또한 ITO 박막은 PET 기판에서 120℃ 온도에서 (222) 방향으로 성장하는 것을 확인할 수 있었다. 160 nm 두께의 ITO 박막은 7 × 10-4 Ω․cm 의 비저항과 550 nm의 파장에서 84% 이상의 투광 특성을 보여주었다. 대향타겟식 스퍼터링법을 사용하면 낮은 온도의 공정을 통해 결정화된 ITO 박막을 증착할 수 있다.

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