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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제4권 제3호
발행연도
2003.1
수록면
15 - 18 (4page)

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Aluminum oxide (Al2O3) materials were coated conformally on ZnO nanorods by atomic layer deposition (ALD). The ZnO nanorods were first synthesized on a Si(100) substrate from ball-milled ZnO powders by a thermal evaporation procedure. Al2O3 films were then deposited on these ZnO nanorods by ALD at a substrate temperature of 300℃ using trimethylaluminum (TMA) and distilled water (H2O). Transmission electron microscopy (TEM) and high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) images of the deposited ZnO nanorods revealed that amorphous Al2O3 cylindrical shells surround the ZnO nanorods. These TEM images illustrate that ALD has an excellent capability to coat any shape of nanorods conformally.
#ZnO nanorod #Atomic layer deposition #Al2O3 #Coating #TEM

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