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논문 기본 정보

자료유형
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저널정보
한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제6권 제4호
발행연도
2005.1
수록면
164 - 168 (5page)

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Effects of high-temperature slurry were investigated on the chemical mechanical polishing (CMP) performance of tetra-ethyl ortho-silicate (TEOS) film with silica and ceria slurries by the surface analysis of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The pH showed a slight tendency to decrease with increasing slurry temperature, which means that the hydroxyl (OH-) groups increased in slurry as the slurry temperature increased and then they diffused into the TEOS film. The surface of TEOS film became hydro-carbonated by the diffused hydroxyl groups. The hydro-carbonated surface of TEOS film could be removed more easily. Consequently, the removal rate of TEOS film improved dramatically with increasing slurry temperature.
#Chemical mechanical polishing #CMP) #Tetra-ethyl ortho-silicate #TEOS) #Slurry temperature #Removal rate #pH #X-ray photoelectron spectroscopy #XPS)

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/ 1976. / Applications of ESCA to polymer chemistry. XI. Core and valence energy levels of a series of polymethacrylates 14 : 1701 ~ google schola / 1977. / Polymer primary structures studied by ESCA and EHCO methods 16 : 329 ~ google schola / 1978. / Applications of ESCA to polymer chemistry. XVII. Systematic investigation of the core levels of simple homopolymers 16 : 791 ~ google schola / 1978. / The XPS spectra of the metathesis catalyst tungsten oxide on silica gel 14 : 6 453 ~ google schola / 1979. / a study with XPS 16 : 363 ~ google schola

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