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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제26권 제3호
발행연도
2013.1
수록면
194 - 197 (4page)

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RF magnetron sputtering 증착방법으로 증착한 ZnO 박막과 2 wt% Al-doped ZnO(AZO) 박막의 표면형상과 전기적․광학적 특성에 미치는 etching 시간의 영향을 살펴보았다. ZnO 박막과 AZO 박막의 두께는 500 nm로 동일하게 하였으며 Etching 실험은 실온에서 HCL 5% 수용액을 이용하여 진행하였다. etching 시간에 따른 표면 형상은 AFM으로 관찰하였고 전기적 특성은 hall measurement system 및 4-point probe로 분석하였고, 광학적 특성은 UV-VIS spectroscopy로 관찰하였다. 두 박막 모두 etching 시간이 증가함에 따라 박막표면에 texturing structure가 형성되었고 투과율은 감소하였다. AZO의 경우에는 etching 시간의 증가와 더불어 비저항은 1.0×10-3 Ω․cm의 낮은 값을 보였다.
#ZnO #Al-doped ZnO #Electrical & #amp # optical properties #Texture structure #Wet etching time

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참고문헌 (7)

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C. G. Granqvist / 2002 / / Thin Solid Films 411 : 1 ~ google schola K. A. Sierros / 2009 / / Wear 267 : 625 ~ google schola L. Raniero / 2006 / / Thin Solid Films 511 : 295 ~ google schola M. F. A. M. Hest / 2006 / / Thin Solid Films 496 : 70 ~ google schola M. Nisha / 2005 / / Appl. Surf. Sci 252 : 1430 ~ google schola

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