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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology Applied Science and Convergence Technology Vol.24 No.4
- 발행연도
- 2015.7
- 수록면
- 102 - 110 (9page)
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Fluid model based numerical analysis is done to simulate a plasma processing system with electrodes at floating potential. Vf is a function of electron temperature, electron mass and ion mass. Commercial plasma fluid simulation softwares do not provide options for floating electrode boundary value condition. We developed a user subroutine in CFD?ACE+ and compared four different cases: grounded, dielectric, zero normal electric field and floating electric potential for a 2D?CCP (capacitively coupled plasma) with a ring electrode.
목차
I. Introduction
II. Numerical Model Setup
III. Simulation Results and Discussion
IV. Conclusions
References
참고문헌 (9)
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[학술지(정기간행물)] - 권득철 / 2009 / A numerical study of the effect of gas injection position in an inductively coupled plasma discharge / Current Applied Physics 9 (3) : 546 ~ 550
[학술지(정기간행물)] - 주정훈 / 2010 / 수치모델을 이용한 pulsed dc bias ICP장치의 플라즈마 특성 해석 / 한국표면공학회지 43 (3) : 154 ~ 158
[학술지(정기간행물)] - 주정훈 / 2010 / Very High Frequency Multi Hollow Cathode PECVD 장치의 수치모델링 / 한국진공학회지 19 (5) : 331 ~ 340
[학술지(정기간행물)] - 주정훈 / 2012 / 사각형 유도 결합 플라즈마 시스템의 수치 모델링 / 한국표면공학회지 45 (4) : 174 ~ 180
[학술지(정기간행물)] - B. Briehl / 2002 / / Surf. Coat. Technol 160 : 259 ~
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