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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 1997.5
- 수록면
- 143 - 150 (8page)
이용수
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본 연구에서는 1000 Å 두께의 Molybdenum 화합물 (Mo, Mo-N, MoSi₂, Mo-Si-N)의 Cu에 대한 확산방지막으로서의 특성을 면저항측정장비 (four-point-probe), XRD, XPS, SEM, RBS 분석을 통하여 조사하였다. 각 박막층은 de magnetron sputtering 장비를 이용하여 증착되었고 300℃-800℃의 온도구간에서 30분동안 진공열처리하였다. Mo 및 MoSi₂ 방지막은 낮은 온도에서 확산방지막으로서의 특성파괴를 보였다. 결정립계를 통한 Cu의 확산과 Mo-실리사이드내의 Si의 Cu와의 반응이 그 원인인 것으로 사료된다. 질소를 첨가한 시편의 경우 확산방지특성 파괴온도는 Mo-N방지막의 경우 650℃-30분, Mo-Si-N 방지막의 경우 700℃-30분으로 향상되었다. Cu와 Si의 확산은 방지막의 결정립계를 통하여 더욱 빠르게 확산된다. 따라서 증착시 결정립계를 질소와 같은 물질로 채워 Cu와 Si의 확산을 저지할 수 있을 것으로 사료된다. 본 실험결과에서의 질소첨가는 이와 같은 stuffing 효과외에도 Mo-실리사이드 박막의 결정화 온도를 다소 높인 것으로 나타났고, 그 결과 결정립계의 밀도를 감소시켜 확산방지막으로서의 특성을 향상시킨 것으로 사료된다. 또한 질소첨가는 실리사이드내의 금속과 실리콘과의 비를 변화시켜 확산방지막의 특성에 영향을 미친 것으로 보인다. 본 실험에서 조사된 확산방지막 중에서는 Mo-Si-N박막이 Cu와 Si간의 확산을 가장 효과적으로 저지시킨 것으로 나타났으며 650℃-30분까지 안정한 특성을 보였다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
참고문헌
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