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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2001.12
- 수록면
- 396 - 402 (7page)
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전자빔 증착기를 이용하여 1000 Å의 두께를 가진 MgO 박막을 구리 기판위에 상온에서 증착하였다. 스퍼터링 수율 측정시 MgO 층에 충전현상을 없애주기 위해서 1000 Å 두께의 Al을 증착하였다. 갈륨 액체금속을 집속이 온빔 이온원으로 사용하였다. 두 개의 정전렌즈를 사용하여 이온빔을 집속하였고, MgO에 이온빔을 주사하기 위해 편향기를 사용하였다. 가속전압의 변화에 따라 시료대 전류와 이차입자 전류를 측정하였고, 이 전류값은 소스에 인가하는 가속전압에 따라 변화되었다. MgO 박막의 스퍼터링 수율은 분석된 시료대 전류, 이차입자 전류 및 순수빔 전류의 값을 사용하여 결정하였다. 집속이온빔 장치의 가속전압이 15 kV일 때 MgO 박막의 스퍼터링 수율은 0.30으로 나왔고 가속전압의 값이 증가할 때 스퍼터링 수율이 선형적으로 증가하였다. 이러한 결과를 볼 때 집속이온빔 장치를 이용하면 MgO 박막의 스퍼터링 수율을 측정할 때 매우 효과적임을 알 수 있다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과
4. 결론
감사의 글
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