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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
김창조 (인하대학교) 이붕주 (남서울대학교) 신백균 (인하대학교)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제19권 제5호
발행연도
2010.9
수록면
341 - 346 (6page)

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본 논문에서는 반응성 스퍼터링(Reactive Sputtering) 공정으로 Sis<SUB></SUB>O<SUB>y</SUB> 박막과 Si<SUB>x</SUB>N<SUB>y</SUB> 박막을 4층 구조로 적층하고 400∼700[㎚]의 가시광 영역에서 빛의 반사를 줄이기 위한 반사방지 코팅(Anti-Reflection Coating)으로의 응용 가능성을 조사하였다. 스퍼터링 타겟으로 6 [inch] 직경의 Si 단결정을 사용하였고, 반응성 스퍼터링 가스는 Si<SUB>x</SUB>O<SUB>y</SUB> 박막 증착에서 Ar과 O₂를, SixNy 박막 증착에서는 Ar과 N₂를 사용하였으며, 스퍼터링 파워로는 DC pulse를 사용하였다. 1,900 [W] DC pulse power에서 Ar:O₂=70:13 [sccm]의 반응성 스퍼터링으로 2.3 [㎚/sec]의 증착률과 1.50의 굴절률을 보이는 Si<SUB>x</SUB>O<SUB>y</SUB> 박막을 제작하였고, Ar:N₂=70:15 [sccm]의 반응성 스퍼터링으로 1.8 [㎚/sec]의 증착률과 1.94의 굴절률을 보이는 Si<SUB>x</SUB>N<SUB>y</SUB> 박막을 제작하였다. 이 두 종류의 박막을 이용해서 시뮬레이션을 통해 4층 구조의 반사방지 코팅 구조를 설계한 후, 설계결과에 따라 각 박막의 두께를 순차적으로 변화시켜 증착하였다. 4층 구조 Si<SUB>x</SUB>O<SUB>y</SUB>-Si<SUB>x</SUB>N<SUB>y</SUB> 의 반사도 측정 결과 550 [㎚] 대역에서 1.7 [%]의 반사와 400[㎚]와 650 [㎚] 영역에서 1 [%]의 반사를 보였으며, 가시광 영역에서 성공적인 “W” 형태의 반사방지 코팅 특성을 보였다.
#반응성 스퍼터링 #Si< #SUB> #x< #/SUB> #O< #SUB> #y< #/SUB> #Si< #SUB> #x< #/SUB> #N< #SUB> #y< #/SUB> #굴절률 #반사방지 코팅 #Reactive sputtering #Refractive index #Anti-reflection coating

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험 및 결과
Ⅲ. 결론
참고문헌

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